詳細(xì)信息
水基硅片清洗劑ZS-002H，中性硅片清洗劑，環(huán)保清洗劑選邁浪邁浪中性水基硅片清洗劑
MIGHTY ZS-002H
一、應(yīng)用范圍：
本品適用于硅片表面因切割、研磨、拋光等機(jī)械加工，在表面生成的多種污染物的清除，如研磨粉、拋光粉、硅粉、微粒、灰塵、有機(jī)物、金屬離子等，這些污染物在晶片進(jìn)行氧化之前，必須徹底清洗。
二、技術(shù)特性：
1、對硅片表面的線切割液殘留物、金屬離子、硅粉等物質(zhì)有獨(dú)特的清洗效果。
2、低泡沫、易操作，洗凈率≥99.9%，循環(huán)使用無排放，節(jié)能環(huán)保。
3、不含Na、Fe、Cu、Ni、K等金屬離子。
三、主要技術(shù)指標(biāo)：
外 觀：淡黃色透明液體， PH 值(3%水溶液，25℃)：7-8
四、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：QB/T 2117-95
五、使用方法：
1、超聲波清洗。按1:10～30兌水。溫度：40～60℃。時間：3～5分鐘。
2、污垢較重的硅片，適當(dāng)減小兌水比例，延長清洗時間。清洗完畢，去離子水徹底漂洗。
六、注意事項(xiàng)：
1、工作液不能滿足工作要求時，濾清后追加原液、補(bǔ)充工作液或清槽換液。
2、常規(guī)防護(hù)，不慎濺入眼中立即用清水沖洗。
七、包裝規(guī)格：25公斤/桶
八、保質(zhì)期：2年。
MIGHTY ZS-002H
一、應(yīng)用范圍：
本品適用于硅片表面因切割、研磨、拋光等機(jī)械加工，在表面生成的多種污染物的清除，如研磨粉、拋光粉、硅粉、微粒、灰塵、有機(jī)物、金屬離子等，這些污染物在晶片進(jìn)行氧化之前，必須徹底清洗。
二、技術(shù)特性：
1、對硅片表面的線切割液殘留物、金屬離子、硅粉等物質(zhì)有獨(dú)特的清洗效果。
2、低泡沫、易操作，洗凈率≥99.9%，循環(huán)使用無排放，節(jié)能環(huán)保。
3、不含Na、Fe、Cu、Ni、K等金屬離子。
三、主要技術(shù)指標(biāo)：
外 觀：淡黃色透明液體， PH 值(3%水溶液，25℃)：7-8
四、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：QB/T 2117-95
五、使用方法：
1、超聲波清洗。按1:10～30兌水。溫度：40～60℃。時間：3～5分鐘。
2、污垢較重的硅片，適當(dāng)減小兌水比例，延長清洗時間。清洗完畢，去離子水徹底漂洗。
六、注意事項(xiàng)：
1、工作液不能滿足工作要求時，濾清后追加原液、補(bǔ)充工作液或清槽換液。
2、常規(guī)防護(hù)，不慎濺入眼中立即用清水沖洗。
七、包裝規(guī)格：25公斤/桶
八、保質(zhì)期：2年。
